ハイテク研究開発向けの高度な角型シリコン ウェーハ-

正方形のデザインはレイアウトの柔軟性を高め、材料の利用率を向上させるため、性能とコスト効率の両方を必要とする研究開発研究所、大学、半導体開発センターにとって特に価値があります。このウェーハは、ほぼ完璧な表面品質と優れた寸法精度により、フォトリソグラフィーやプラズマ エッチングから薄膜堆積やナノスケール デバイスの作成まで、幅広い微細加工プロセスをサポートしています。-

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